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Columnスパッタリングターゲットとは?どのようなものなのか種類も紹介!

スパッタリングターゲットとは?どのようなものなのか種類も紹介!

スパッタリングターゲットは、さまざまな産業で薄膜を高精度に形成するために不可欠な素材です。

この技術は、主に電子機器やディスプレイ、半導体の製造に使用されており、品質や性能に直結する重要な要素となっています。

この記事では、スパッタリングターゲットの基本的な役割や原理、種類、最新技術の進化に至るまで、詳しく解説します。

ぜひ参考にしてください。

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中澤社長 エコ・マテリアル

スパッタリングの原理とは

スパッタリングは、金属やセラミックの薄膜を精度高く基材に形成するための物理的な蒸着技術です。

主に真空チャンバー内で行われ、ターゲット材料と呼ばれる薄膜の元となる素材にアルゴン(Ar)などの不活性ガスを導入します。

このとき、ターゲット材料に負電圧を印加することで、グロー放電が発生するといった仕組みです。

これにより、アルゴンガスがプラズマ化し、正に帯電したアルゴンイオンがターゲット材料の表面に高速で衝突します。

衝突によってターゲット材料の原子や分子が弾き飛ばされ、それらが基材の表面に飛散し、薄膜が堆積して形成される仕組みです。

この原理は、プールに石を投げ入れて水しぶきを上げる様子によく例えられます。

アルゴンイオンが「石」に、ターゲット材料が「水」に相当し、弾き飛ばされた粒子が基材に付着して薄膜が作られます

この過程において、スパッタリングはナノレベルでの高精度な膜厚の制御が可能であり、電子部品やディスプレイの製造において非常に重要な技術です。

電圧やガスの種類を調整することで、形成される薄膜の特性を変えることができ、多様な材料や用途に適用されることがスパッタリング技術の大きなメリットです。

スパッタリングターゲットとは

スパッタリングターゲットとは、スパッタリング技術を使って薄膜を形成する際に使用される材料のことを指しています。

主に金属やセラミックが使われ、その材料が基材に飛ばされて薄膜を作るといった仕組みです。

高品質な薄膜を形成するため、ターゲットにはいくつかの条件が求められます。

まず、不純物が少なく高密度であることが重要です。

また、ターゲット材料の内部に気泡が含まれないことや、膜圧の均一性膜質の均質性も求められます。

さらに、コストの面でも、予算内で生産できることが重要なポイントです。

スパッタリングターゲットの種類と用途

スパッタリングターゲットには多様な種類があり、それぞれの用途に応じた材料が選ばれます。

たとえば、シリコン系や酸化チタン系のターゲットは、反射防止フィルムの製造に利用されます。

また、プラチナ系合金やルテニウム系のターゲットは、HDDなどの記憶装置に使われる薄膜の形成に最適です。

さらに、銀合金のターゲットはフラットパネルディスプレイの製造に広く用いられています。

用途に応じて特性や強度を考慮したターゲット選定が必要です。

スパッタリング技術の進化と最新動向

スパッタリング技術は、薄膜形成の分野で絶えず進化を遂げており、現在ではより高度な製造が可能となりました。

当初は、平面の基板上に薄膜を形成する手法として使われていましたが、近年では微細な孔の内部にまで薄膜を形成できる技術が開発されています。

これには、基板を高温にして銅を流れ込みやすくする「中性原子のリフロー」や、銅をイオン化して引き込む「イオン化スパッタリング」、さらに入口に潤滑層として窒化チタン(TiN)を設ける手法が用いられています。

これらの技術により、複雑な構造や微細なパターンにも対応できるようになりました。

さらに、スパッタリングで使用されるアルゴンガスが薄膜にごくわずかに取り込まれてしまう問題もありましたが、これを克服するために「セルフスパッタ」という新技術が導入されました。

セルフスパッタは、金、銀、銅など一部の金属でのみ可能で、アルゴンを使わずにその金属自身のイオンでスパッタリングを行う方法です。

セルフスパッタにより、さらに純度の高い薄膜の形成が可能となりました。

このように、スパッタリング技術は、微細化や高品質な薄膜形成を求める市場のニーズに応じて日々進化し、さまざまな新しい技術が開発されています。

これにより、電子機器やディスプレイ、半導体の製造プロセスにおいて、スパッタリングの応用範囲がさらに広がり続けています。

まとめ

いかがでしたでしょうか。

スパッタリングターゲットは、薄膜形成に欠かせない重要な材料であり、その品質や選定は製造プロセスにおいて非常に重要です。

スパッタリング技術自体も進化を続けており、平面だけでなく微細な孔内への薄膜形成やセルフスパッタリングといった新技術により、より高精度で多様な製造が可能となっています。

ターゲット材料の選定は、用途や特性に応じて適切に行う必要があり、それが製品の性能や品質に大きな影響を与えるでしょう。

今後もスパッタリング技術の進化に伴い、その用途はますます広がり、企業にとって重要な技術であり続けることが期待されます。

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